設備描述

活性屏離子氮化爐是我公司研制的新型離子滲氮爐。活性屏技術解決了傳統離子滲氮技術一些難以克服的技術問題，如：打弧、工件測溫控溫難、爐內工件溫度均勻性差、大小工件不能混裝、空心陰極效應、操作復雜等一系列問題。

本設備采用了全逆變式大功率脈沖電源、保溫式全不銹鋼爐體結構、爐內雙測溫控溫系統、爐內壓力雙閉環自動控制系統、爐體液壓自動升降移動系統、快速充氮冷卻系統以及工藝參數自動控制系統等組成。主要控制系統及執行元器件采用法國、德國、美國品牌，可實現手動及全自動操作。

活性屏離子滲氮爐主要適用于小零件氮化、精密模具、高精配件等高端零件的離子氮化、離子氮碳共滲。

適用工藝：離子氮化、離子軟氮化

可加工零件尺寸：Φ1000×1500mm/Φ1200×2000mm

最大裝爐量：1000kg/2000kg

溫度均勻性：±5℃

設備規格列表：

注：以上參數可根據顧客要求調整